工艺流程图
碱抛光添加剂 BPL-719系列

去污能力强
- 背面处理干净,具有更强的去污能力,更干净的碱抛效果。
保护性强,绒面均匀平整
- 适用于臭氧氧化及链式氧化。碱抛光之后塔基平整,塔基之间衔接良好。
降低成本
- 降低碱抛的后清洗浓度,或者去掉后清洗步骤。
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碱抛光添加剂.pdf
工艺流程图
单晶刻蚀段
单晶制绒添加剂 MQT-809A系列

适用于普通单晶制绒,PERC制绒,TOPCon制绒
效率高- 反射率低,绒面均匀,稳定性好,效率优势明显。
反射率低
- 反射率低且周期内稳定,上升幅度小。
出绒率高
- 绒面密度高,宽高比值小,可调空间大,适配性好。
低成本
- 化学品耗量低,成本优势明显。
工艺流程图
单晶制绒段
